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Prof. Dr. rer. nat. Martin Jogwich

Fakultät Elektrotechnik und Medientechnik

Professor:innen

Professor

Studiengangsleiter ET-B

E 227

0991/3615-518

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abhängig vom jeweiligen Semester

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s. Aushang am Sekretariat

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Zeitschriftenartikel

  • Martin Jogwich

Smart & günstig. Kostengünstige, intelligente Kamera auf Raspberry-Pi-Basis

In: inVISION - Bildverarbeitung/Embedded Vision/3D Messtechnik pg. 90-91.

  • (2018)

  • Elektrotechnik und Medientechnik
  • DIGITAL
Beitrag in Sammelwerk/Tagungsband

  • Martin Jogwich

Virtuelles Automatisierungstechniklabor in der Lehre

Deutscher Industrieverlag München

  • (2014)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Zeitschriftenartikel

  • Martin Jogwich
  • Martina Reitmaier-Krebs

Virtuelles Labor für Automatisierungstechnik - Simulationssoftware erlaubt interaktives Lernen

In: atp edition - Automatisierungstechnische Praxis

  • (2011)

    ISSN: 0178-2320

  • Elektrotechnik und Medientechnik
Monographie

  • A. Jogwich
  • Martin Jogwich

Technische Strömungsmechanik für Studium und Praxis . [reibungsfreie und reibungsbehaftete Strömung : Duchflussmessung ; erweiterte Energiegleichung]

Oldenbourg Verlag München

  • (2009)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Vortrag

  • Martin Jogwich
  • et al.

Erprobung von APC- und Optimierungswerkzeugen an einem Ammoniakanlagen-Trainingssimulator

Dresden

  • September 2001 (2001)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Vortrag

  • Martin Jogwich
  • et al.

Plant Management System and Advanced Process Control for Ammonia Plants

Orlando, FL; USA

  • 06.-11.02.2000 (2000)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Zeitschriftenartikel

  • C.-J. Lorenzen
  • T. Schneider
  • H. Ortner
  • Martin Jogwich
  • et al.

Elementanalyse von Fertigmischungen technischer Gummiwaren mittels laserinduzierter Emissionsspektralanalyse

In: KGK - Kautschuk Gummi Kunststoffe vol. 49 pg. 44.

  • (1996)

    ISSN: 0022-9520

  • Elektrotechnik und Medientechnik
Zeitschriftenartikel

  • K. Fu
  • Martin Jogwich
  • M. Knebel
  • K. Wiesemann

Atomic Transition Probabilities and Lifetimes for the Cu I System

In: Atomic Data and Nuclear Data Tables vol. 61 pg. 1-30.

  • (1995)

    ISSN: 0092-640X

DOI: 10.1016/S0092-640X(95)90009-8

Measured and calculated transition probabilities, oscillator strengths, and wavelengths for Cu I atomic transitions and measured and calculated lifetimes of Cu I states are tabulated. Data published from 1957 to mid-1994 are covered in this compilation.
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Zeitschriftenartikel

  • C. Carlhoff
  • Martin Jogwich
  • C.-J. Lorenzen

Analyse von Kunststoffen durch laserinduzierte Emissionsspektralanalyse

In: Laser-Praxis vol. 10 pg. 86-88.

  • (1994)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Beitrag in Sammelwerk/Tagungsband

  • K. Fu
  • Martin Jogwich
  • et al.

Atomic Transition Probabilities and Lifetimes for the Cu I System

  • (1993)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Zeitschriftenartikel

  • C.-J. Lorenzen
  • C. Carlhoff
  • U. Hahn
  • Martin Jogwich

Application of Laser-Induced Emission Spectral Analysis for Industrial Process and Quality Control

In: Journal of Analytical Atomic Spectrometry vol. 7 pg. 1029-1035.

  • (1992)

    ISSN: 0267-9477

DOI: 10.1039/JA9920701029

Laser-induced emission spectral analysis (LIESA, a registered trademark of instruments developed by Krupp), better known in the literature as laser microanalysis or laser-induced breakdown spectroscopy, is a suitable method for the direct in-process measurement of elemental concentrations in various solid and liquid materials. This method has been developed recently by Krupp for in-process quality assurance and process control in different industrial branches such as steel production and plant making. As a result several LIESA instruments have already been developed or are under development for marketing. In all cases on-line and in-process elemental analysis of materials at various stages of production yield information on the quality of the material and the fabrication process. The beam of a pulsed high-power laser (irradiance: 1 × 108–5 × 109 W cm–2), focused onto the solid or liquid sample surface in an ambient gas atmosphere of normal pressure (focus area≈ablation area, 0.1–6 mm2), produces a hot bright plasma (early electron temperatures, 20000–30000 K). The emitted plasma light is observed end-on and passes by way of an optical fibre bundle to a spectrometer, where it is detected in the focal plane by means of an optical multichannel analyser with high time resolution (on the microsecond scale). A fast computer evaluates the measured spectra and calculates the element concentrations via calibration procedures. Relative detection limits of between 10 and 100 ppm can be achieved for most of the detectable elements in various matrices (steel, rubber, rock and glass). Procedures are available to convert relative measurements with relative standard deviations of between 1 and 2% into absolute concentration values with relative accuracies of about 3%.
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Vortrag

  • Martin Jogwich

Bestimmung der Ratenkoeffizienten von Zweielektronen-Transferprozessen zwischen Cu und Ar2+ in einer EZR-Entladung

München

  • 12.-16.03.1990 (1990)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Zeitschriftenartikel

  • Martin Jogwich
  • B. Huber
  • K. Wiesemann

A Spectroscopic Study of Double Electron Transfer from Cu to ArIII in an ECR-Microwave Discharge

In: Zeitschrift für Physik D: Atoms, Molecules and Clusters vol. 17 pg. 171-179.

  • (1990)

    ISSN: 0178-7683

We present spectroscopic measurements of rate coefficients for the population of the ArI 6d[3/2] o and 8s[3/2] o states by two electron transfer from sputtered Cu to Ar2+ in an ECR microwave discharge. Rate coefficients are obtained from absolutely measured line intensities using a modified corona model. Though the binding energies of these states differ by 8 meV only the probability of populating the 6d level exceeds by a factor of ten that of populating the 8s level. This is attributed to an energy resonance between the two electrons when promoting to their final levels. The cross section for this two electron transfer comes out to be of the order of 10−15 to 10−14 cm2.
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Beitrag in Sammelwerk/Tagungsband

  • Martin Jogwich
  • et al.

Selective Population of the Ar I 6d[3/2]0 Level by Two Electron Transfer from Copper . Posterpräsentation

pg. 428.

  • (1989)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Beitrag in Sammelwerk/Tagungsband

  • Martin Jogwich

Selektive Besetzung hochangeregter ArI-Zustände durch einen Zweielektronentransfer zwischen Cu und ArIII in einer EZR-Mikrowellenentladung

Bochum, Jülich

  • (1989)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Zeitschriftenartikel

  • Martin Jogwich
  • et al.

Selective Population of the Ar I 6d[3/2]0 Level by Two Electron Transfer from Copper

In: Europhysics Conference Abstracts vol. 12

  • (1988)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Vortrag

  • Martin Jogwich
  • et al.

Zweielektronentransfer zwischen Cu und Ar2+ in einer EZR-Entladung

Düsseldorf

  • 01.-03.03.1988 (1988)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Vortrag

  • Martin Jogwich
  • et al.

VUV-Spektroskopie hochangeregter ArI-Linien einer EZR-Entladung

Göttingen

  • 16.03.1987 (1987)
  • Elektrotechnik und Medientechnik
Vortrag

  • M. Frank
  • A. Hardtke
  • Martin Jogwich
  • et al.

12th European Conference on Controlled Fusion and Plasma Physics

Budapest, Ungarn

  • 02.09.1985 (1985)
  • Elektrotechnik und Medientechnik

Labore

Elektrische Maschinen und Industrielle Bildverarbeitung

Kernkompetenzen

  • Automatisierungstechnik
  • Angewandte Sensorik
  • Industrielle Bildverarbeitung

Sonstiges

Informationen für Studierende: https://ilearn.th-deg.de/course/view.php?id=8911